屏蔽罩是用來(lái)屏蔽電子信號(hào)的工具，作用就是屏蔽外界電磁波對(duì)內(nèi)部電路的影響和內(nèi)部產(chǎn)生的電磁波向外輻射。屏蔽罩的側(cè)壁底面平整度、小件高度及小孔焊接缺陷會(huì)直接影響屏蔽效果，因此，對(duì)屏蔽罩進(jìn)行檢缺陷測(cè)是非常必要的。

 檢測(cè)項(xiàng)目 

屏蔽罩平面高度、屏蔽罩小件高度、屏蔽罩小孔焊接缺陷、屏蔽蓋定位

 檢測(cè)難點(diǎn) 

金屬材質(zhì)，反光高，工件細(xì)小，紋理雜

 檢測(cè)方案 

軟件：HVVS 3D缺陷檢測(cè)算法

硬件：3D線掃相機(jī)

 檢測(cè)結(jié)果 

采用HV系列軟件獨(dú)特的2D+3D缺陷檢測(cè)算法，可以檢測(cè)屏蔽罩小件高度，定位屏蔽蓋位置，檢測(cè)小孔焊接缺陷，檢測(cè)產(chǎn)品平整面高度，檢測(cè)合格率≥97%